Das Praxisseminar vermittelt einen umfassenden Überblick über die Möglichkeiten und Methoden der Partikelmesstechnik.
Themenüberblick:
Partikelgrößenanalyse von Nanometer bis Mikrometer mittels Streulichtmethoden
1. Die Bedeutung der Probenvorbereitung
2. Laserbeugung und dynamische Lichtstreuung
3. Trennverfahren und Lichtstreuung zur hochauflösenden Nanopartikelanalyse
Korngrößen- und Kornformanalyse an Pulvern & Granulaten
1. Siebanalysen im Rahmen der QS nach DIN ISO 9000 ff
2. Dynamische Bildanalyse gemäß ISO 13322-2 und der CAMSIZER
Die Teilnahmegebühr beträgt 100,- Euro, die Teilnehmerzahl ist begrenzt.
TERMINE:
Montag, 09. Juni 2008
Hannover
Dienstag, 10. Juni 2008
Haan (bei Düsseldorf)
Mittwoch, 11. Juni 2008
Mannheim
Donnerstag, 12. Juni 2008
München (Ismaning)
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Hier finden Sie das detaillierte Programm als pdf zum Download.